(A)用于制造GNM/SWNT复合膜的方法的示意图. (B) GNM/SWNT复合膜悬浮在具有16个孔（直径1mm）的多孔PDMS基底上的照片.(C)在(B)中单孔的SEM图.(D)将(C)中所选红色区域的放大SEM图像.(E)GNM/SWNT复合膜的TEM图像.(F)CVDG，看得困女G/SWNT，看得困女GNM/SWNT和SWNT膜的拉曼光谱.(G和H)在O2等离子体蚀刻10秒后，石墨烯(G)和GNM(H)的像差校正的STEM图像。

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图3-7 单个像素处压电响应的磁滞回线：看得困女原始数据（蓝色圆圈），传统拟合曲线（红线）和降噪处理后的曲线（黑线）。凉东（e）分层域结构的横截面的示意图。

京贫（f,g）靠近表面显示切换过程的特写镜头。

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